高氧培養(yǎng)箱CYSQ-80-III三氣培養(yǎng)裝置的詳細(xì)資料：

高氧培養(yǎng)箱CYSQ-80-III三氣培養(yǎng)裝置

主要特征：

1.CO2氣體濃度檢測(cè)采用IR紅外傳感器，計(jì)算出CO2氣體濃度。工作時(shí)，傳感器無(wú)機(jī)械磨損，響應(yīng)速度快，可靠性能高，穩(wěn)定性能好，且使用壽命長(zhǎng)。

2.O2氣體濃度檢測(cè)采用電化學(xué)氧氣傳感器，具有線性度好，檢測(cè)準(zhǔn)確等特點(diǎn)，壽命長(zhǎng)，能充分滿足用戶需要。

3.溫度檢測(cè)全部采用進(jìn)口PT100電阻溫度傳感器，性能穩(wěn)定，線性度好。獨(dú)立套溫和門溫控制，由五個(gè)面的套溫和一個(gè)面的門溫合成工作室溫度，準(zhǔn)確度高。

4.O2氣體濃度小于19.8%時(shí)，采用高純N2氣體和CO2氣體，保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性。

5.O2氣體濃度大于23%時(shí)，采用高純O2氣體和CO2氣體，保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性。

6.箱內(nèi)采用微風(fēng)循環(huán)方式，使空氣循環(huán)接近自然界空氣對(duì)流，縮短溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的恢復(fù)時(shí)間，確保溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的均衡性。

7.箱門打開時(shí)，電磁閥自動(dòng)關(guān)閉微風(fēng)循環(huán)自動(dòng)停止，減少氣體損失節(jié)約氣源，減少外界空氣進(jìn)入箱內(nèi)而造成的污染。

8.單獨(dú)的門溫控制系統(tǒng)，使箱內(nèi)恒溫控制極少受到環(huán)境溫度變化的影響。

9.溫度、氣體濃度，均采用數(shù)字顯示，直觀、清晰、準(zhǔn)確。

10.具有多種保護(hù)功能，當(dāng)顯示溫度超過(guò)預(yù)置溫度時(shí)，可自動(dòng)切斷全部加熱電源。具有獨(dú)立的超溫繼電保護(hù)功能，保證溫度不超過(guò)預(yù)置值。11.水盤自然蒸發(fā)加濕，濕度達(dá)到95％，304不銹鋼材質(zhì)，圓弧，易清潔。

12.滅菌系統(tǒng)： 紫外燈滅菌，靈活可控，操作時(shí)間短。

技術(shù)參數(shù)：

高氧培養(yǎng)箱CYSQ-80-III三氣培養(yǎng)裝置

大屏真彩觸摸屏電腦控制型三氣培養(yǎng)箱，能準(zhǔn)確直觀地控制培養(yǎng)箱溫度和氣體濃度，以解決現(xiàn)有技術(shù)中無(wú)法實(shí)現(xiàn)人機(jī)互動(dòng)和無(wú)法提供清晰的數(shù)據(jù)圖像顯示及參數(shù)配置界面的技術(shù)問(wèn)題，具有安全可靠、簡(jiǎn)潔直觀、操作便捷的特點(diǎn)。

采用氣套式結(jié)構(gòu)，工作室采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼板制作并設(shè)有風(fēng)道，裝有風(fēng)機(jī)形成強(qiáng)制對(duì)流，提高了箱內(nèi)溫度均勻性co2，O2濃度的均衡性。

箱門打開時(shí)，自動(dòng)關(guān)閉風(fēng)機(jī)（關(guān)閉CO2、氮?dú)膺M(jìn)氣閥）并停止加熱，減少空氣的進(jìn)入而造成的污染。

溫度控制采用微機(jī)數(shù)據(jù)分析及智能PID控制，精度高、抗干擾能力強(qiáng)，并采用三探頭分別控制箱溫及門溫，使工作室溫度準(zhǔn)確度高波動(dòng)小。

輕觸式調(diào)節(jié)開關(guān)，輕便靈活，顯示及設(shè)動(dòng)的參數(shù)均采用數(shù)字顯示各工作狀態(tài)均有LED指示

具有超溫?cái)鄽獾榷嘀斜Ｗo(hù)功能，確保設(shè)備安全運(yùn)行。

采用無(wú)菌氣體過(guò)濾裝置和紫外線滅菌燈，以減少污染。

自然蒸發(fā)加濕，使工作室保持較好的溫度。

CO2檢查采用進(jìn)口的紅外探頭，確保測(cè)量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性，工作室內(nèi)CO2濃度可在0~20%范圍內(nèi)任意設(shè)定，其控制采用微機(jī)數(shù)據(jù)分析智能PID控制，并有超濃度、濃度上升過(guò)慢及斷氣報(bào)警，02檢測(cè)采用進(jìn)口電化學(xué)探頭，確保測(cè)量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性，室內(nèi)O2濃度可在1~95%范圍內(nèi)任意設(shè)定，其控制采用微機(jī)數(shù)據(jù)分析及智能PID控制，并設(shè)有超濃度、濃度上升過(guò)慢